ISSN 2359-5191

14/04/2009 - Ano: 42 - Edição Nº: 09 - Ciência e Tecnologia - Instituto de Química
Novo método analítico permite produtos cada vez mais avançados

São Paulo (AUN - USP) - Uma nova técnica para a determinação de elementos químicos em amostras de plasma pode permitir a criação de produtos tecnológicos cada vez mais avançados, como computadores, chips e instrumentos diversos. A pesquisa, realizada no Instituto de Química (IQ) da USP, foi apresentada pelo doutorando Alexandre Luiz de Souza em um seminário realizado recentemente no instituto.

Esse novo método de análise permite avanços diversos para a indústria de tecnologia. Esse setor industrial sempre utilizou as pesquisas nessa linha da química para desenvolver produtos com tecnologias inovadoras. Exemplos desses produtos são os resistores feitos de Carbeto de Silício, utilizados na fabricação de produtos eletrônicos, os cabos de fibra ótica e guias de onda feitos de quartzo, de grande valia para as telecomunicações.

A novidade da técnica é a utilização de padrões internos adicionados em concentrações conhecidas tanto nas amostras de plasma quanto nas soluções de referência, permitindo a correção de possíveis erros de análise. O método criado faz uso da introdução de partículas em suspensão em espectometria de emissão ótica com plasma indutivamente acoplado, procedimento já conhecido pelos estudiosos da área. Em uma suspensão, há diferentes quantidades e tamanhos de partículas, gerando uma grande variação (desvio padrão) nos resultados do procedimento. Após a realização de várias análises, obtém-se uma variação média entre os resultados.

Os padrões internos são elementos que devem ter propriedades físico-químicas semelhantes às da substância de interesse (analito) e, portanto, apresentar variações semelhantes nos resultados das análises. Para o funcionamento do procedimento, o elemento escolhido como padrão interno não pode estar presente na amostra ou, caso esteja, deve estar em quantidade inferior ao limite de detecção.

Com a nova técnica, há uma melhora considerável tanto na precisão quanto na exatidão da análise desses materiais. Adicionados às amostras, os padrões são retidos na superfície sólida das partículas em suspensão, em quantidades equivalentes ao elemento analisado. Ao se fazer a média do desvio padrão nas análises, calcula-se a razão entre os resultados do analito e do padrão interno, obtendo-se a correção dessa variação.

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